Като́дные лучи́, также называемые «электронными пучками» — поток электронов, излучаемый катодом вакуумной трубки.
Вакуумные электронные приборы — один из типов электровакуумных приборов. Главная особенность приборов данного типа — движение электронов происходит в вакууме.
Пла́зменное напыле́ние — процесс нанесения покрытия на поверхность изделия с помощью плазменной струи.
Плазменная обработка — процесс обработки материалов при помощи низкотемпературной плазмы, генерируемой дуговыми или высокочастотными плазмотронами, с целью изменения формы, размеров, структуры обрабатываемого материала или состояния его поверхностного слоя. Разновидностями плазменной обработки являются: разделительная и поверхностная резка, нанесение покрытий, напыление, сварка.
Электро́нно-лучева́я литогра́фия — метод нанолитография с использованием электронного пучка.
Ио́нная импланта́ция — способ введения атомов примесей (имплантата) в поверхностный слой материала, например, пластины полупроводника или эпитаксиальной плёнки путём бомбардировки его поверхности пучком ионов с высокой энергией.
Электронная пушка, электронный прожектор — устройство, с помощью которого получают пучок электронов с заданной кинетической энергией и заданной конфигурации. Чаще всего используется в кинескопах и других электронно-лучевых трубках, СВЧ-приборах, а также в различных приборах таких как электронные микроскопы и ускорители заряженных частиц.
Сфокусированный ионный пучок — широко используемая методика в материаловедении для локального анализа, напыления и травления материалов. Установка для ионного травления напоминает растровый электронный микроскоп. В электронном микроскопе используется пучок электронов, тогда как в СИП применяют более тяжелые частицы — ионы. Бывают установки, использующие оба вида пучков. Не следует путать СИП с устройством для литографии, где также используется ионный пучок, но слабой интенсивности, а в травлении основным является свойства самого резиста.
Вакуумно-дуговое нанесение покрытий — это физический метод нанесения покрытий в вакууме, путём конденсации на подложку материала из плазменных потоков, генерируемых на катоде-мишени в катодном пятне вакуумной дуги сильноточного низковольтного разряда, развивающегося исключительно в парах материала электрода.
Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы сокр., ПХО; ПХГФО иначе плазмохимическое газофазное осаждение; осаждение из паровой фазы стимулированное плазмой — процесс химического осаждения тонких плёнок из паровой фазы при низком давлении с использованием высокочастотной плазмы.
Промышленные ускорители — ускорители заряженных частиц, применяемые в промышленности. Наибольшее распространение получили небольшие линейные ускорители электронов, либо электростатические, либо импульсные, на энергию 0.1÷5 МэВ. Также широко используются электростатические ускорители ионов для легирования тонкого слоя полупроводников, для нужд микроэлектроники.
Пучковое оружие — разновидность космического оружия, основанная на формировании пучка частиц, ускоренных до околосветовых скоростей, и использовании запасённой в них кинетической энергии для поражения вражеских объектов. Наряду с лазерным и кинетическим оружием пучковое оружие разрабатывалось в рамках СОИ как перспективный вид принципиально нового оружия.
Исто́чники пла́змы - устройства, предназначенные для создания плазмы. Создание плазмы требует по меньшей мере частичной ионизации нейтральных атомов и/или молекул среды. В технике, как правило, для создания плазмы используются те или иные виды газового разряда.
Ио́нное распыле́ние — эмиссия атомов с поверхности твёрдого тела при его бомбардировке тяжёлыми заряженными или нейтральными частицами. В случае, когда речь идёт о бомбардировке отрицательно заряженного электрода (катода) положительными ионами, используется также термин «катодное распыление».
Реакти́вное ио́нное травле́ние (РИТ) — технология удаления материала с поверхности подложки (травление), используемая в микроэлектронике, где химически активная плазма используется для удаления материала с подложки.
Марк Давидович Габович — советский учёный-физик. Доктор физико-математических наук (1965), профессор (1967). Заслуженный деятель науки и техники УССР (1978).
Spallation Neutron Source — самый интенсивный в мире импульсный ускорительный источник нейтронов в Ок-Риджской национальной лаборатории, США.
Электронно-лучевая обработка — широкий спектр процессов (технологий), при которых для технологических целей используют остросфокусированный пучок электронов, движущихся с большой скоростью.
Дуоплазматрон — источник как отрицательных, так и положительных ионов, в том числе многозарядных, плазменного типа.
Сверхпроводящие резонаторы (SRF — Superconducting Radio Frequency) — радиочастотные резонаторы, выполненные с использованием сверхпроводимости, обладающие чрезвычайно высокой добротностью. Ниобиевый резонатор, работающий на частотах 1.3 ГГц при температуре 1.8 К может иметь добротность до Q = 1011. Сверхпроводящие резонаторы в основном применяются в линейных и циклических ускорителях пучков заряженных частиц.
